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https://repositorio.uema.br/jspui/handle/123456789/3757| Título: | Análise das propriedades mecânicas e eletrônicas do nitreto de titânio (TIN) através do formalismo da teoria funcional da densidade (DFT) |
| Título(s) alternativo(s): | Analysis of the mechanical and electronic properties of titanium nitride (TIN) using the density functional theory (DFT) formalism |
| Autor(es): | Figueirêdo, Guilherme Melo |
| Orientador: | Serra, Ediomar Costa |
| Membro da Banca: | Serra, Ediomar Costa |
| Membro da Banca: | Rêgo, Mateus Silva |
| Membro da Banca: | Carvalho, Iure da Silva |
| Data do documento: | 2023-07-04 |
| Editor: | Universidade Estadual do Maranhão |
| Resumo: | O nitreto de titânio (TiN) possui diversas propriedades mecânicas, elétricas e termodinâmicas altamente empregadas em diversos setores industriais, para as quais se torna indispensável o conhecimento e a caracterização desse material. Diante da importância de suas aplicações como revestimento na fabricação de materiais, como em ferramenta de corte, é necessário investigar suas propriedades intrínsecas e usá las de forma mais precisa. Para isso, é imprescindível entender o arranjo de sua estrutura atômica. A partir disso, na presente pesquisa foi elaborado um estudo das propriedades mecânicas e eletrônicas de filmes finos do nitreto de titânio (TiN) a 20° C, partindo da análise dos resultados de Difração de Raios X (DRX) obtida de filme fino de TiN produzido por plasma. Inicialmente foi realizado o refinamento Rietiveld da estrutura cristalina do TiN e posteriormente a otimização geométrica, realizado no programa Quantum expresso. Com isso, foi calculado as propriedades mecânicas, estruturas de bandas e a Densidade de Estados Total (DOS) e Parcial (PDOS), através da Teoria Funcional da Densidade (DFT) |
| Resumo: | Titanium nitride (TiN) has several mechanical, electrical and thermodynamic properties that are widely used in various industrial sectors, for which knowledge and characterization of this material are essential. Given the importance of its applications as a coating in the manufacture of materials, such as cutting tools, it is necessary to investigate its intrinsic properties and use them more precisely. To this end, it is essential to understand the arrangement of its atomic structure. Based on this, this research developed a study of the mechanical and electronic properties of titanium nitride (TiN) thin films at 20°C, based on the analysis of the X-ray Diffraction (XRD) results obtained from a TiN thin film produced by plasma. Initially, the Rietiveld refinement of the TiN crystal structure was performed and subsequently the geometric optimization, carried out in the Quantum Express program. With this, the mechanical properties, band structures and the Total (DOS) and Partial (PDOS) Density of States were calculated, using Density Functional Theory (DFT) |
| Palavras-chave: | Nitreto de titânio (TiN) Teoria Funcional da Densidade (DFT) Propriedades Eletrônicas e Mecânicas Bandas Densidade de Estados Total (DOS) Parcial (PDOS) Difração de Raios X (DRX) Propriedades Mecânicas Propriedades Eletrônicas Titanium Nitride (TiN) Density Functional Theory (DFT) Electronic and Mechanical Properties Bands Total Density of States (DOS) Partial Density of States (PDOS) X-Ray Diffraction (XRD) Mechanical Properties Electronic Properties |
| Aparece nas coleções: | Curso de Licenciatura em Física - Caxias UEMA - Monografias |
Arquivos associados a este item:
| Arquivo | Descrição | Tamanho | Formato | |
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| MONOGRAFIA - GUILHERME MELO FIGUEIRÊDO - CURSO DE LICENCIATURA EM FÍSICA CAXIAS UEMA 2023.pdf | PDFA | 923.14 kB | Adobe PDF | Visualizar/Abrir |
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